1. 高硬度：纳米氧化铝具有较高的硬度，可以有效地去除资料外表的凸起，完成高精度的抛光作用。
2. 均匀涣散性：纳米氧化铝颗粒涣散均匀，利于在抛光过程中的均匀使用，防止发生划痕或高低不平的问题。
3. 耐高温性：纳米氧化铝具有较高的熔点和耐高温功能，可以在高温条件下保持稳定的抛光作用。
1. 半导体职业：纳米氧化铝被大规模的使用于半导体制造的完好过程中的CMP（化学机械抛光）工艺，用于去除晶圆外表的凸起和进步平整度，以进步芯片的功能和可靠性。
2. 光学范畴：纳米氧化铝常用于光学镜片、光学玻璃等资料的抛光，以进步光学元件的外表上的质量和透明度。
3. 陶瓷职业：纳米氧化铝可用于陶瓷资料的抛光处理，改进陶瓷外表的光洁度和细腻度。
4. 金属加工：纳米氧化铝可用于金属加工中的抛光和修正工艺，改进金属外表的光洁度和细腻度。
相同的，纳米二氧化硅（SiO2）、纳米氧化锡（SnO2）和纳米氧化铈（CeO2）也具有相似的特色和使用场景规模，在半导体、光学、陶瓷和金属加工等范畴都有广泛的使用。这些纳米氧化物抛光资料在不相同的范畴中的使用有助于进步外表上的质量、光学特性和机械功能，满意各种高精度加工和使用需求。
